Urządzenia tworzone w Polsce stanowią kluczowy element maszyn ASML
Generatory plazmowe rozwijane w polskich zakładach Trumpf Huettinger wykorzystywane są m.in. do produkcji zaawansowanych półprzewodników czy paneli fotowoltaicznych.
Trumpf Huettinger, jeden z kluczowych inwestorów branży elektronicznej w Polsce, we współpracy z ASML, liderem sprzętu do produkcji półprzewodników, oraz firmą Zeiss, specjalistą w dziedzinie układów optycznych, opracowuje systemy laserowe, będące sercem maszyn do produkcji półprzewodników. Mający ponad 100-letnią historię koncern Trumpf, w Polsce obecny jest od 2007 roku, kiedy to przejął założoną przez grupę naukowców z Politechniki Warszawskiej spółkę Advanced Converters (AC). Trumpf zatrudnia w Polsce już blisko 1.700 osób i osiąga przychody na poziomie 1.5 mld PLN.
Układy scalone z układami logicznymi i pamięcią posiadają struktury mierzone w nanometrach i mogą być wytwarzane tylko w drodze skomplikowanych procesów naświetlania promieniem lasera. Tradycyjna metoda wykorzystująca promienie laserowe z zakresu ultrafioletu z laserów ekscymerowych coraz częściej okazuje się już niewystarczająca. Mniejsze struktury będzie można generować w przyszłości tylko z użyciem jeszcze mniejszych długości fal w zakresie skrajnego ultrafioletu (EUV).
TRUMPF Huettinger w Polsce rozwija zasilacze dużej mocy (generatory plazmowe) dzięki którym precyzyjnie ustala się warunki wybudzania plazmy w komorze próżniowej oraz zasilanie do laserów i maszyn TRUMPF. Połowa produkcji w tym zakresie w Polsce pokrywa zapotrzebowanie wewnętrzne grupy w Niemczech. Pozostali partnerzy to m.in. takie koncerny jak Airbus, Apple, czy firmy japońskie (Tokyo Electron) i koreańskie. Generatory plazmowe rozwijane w polskich zakładach grupy wykorzystywane są m.in. do produkcji zaawansowanej elektroniki (półprzewodników, powłok na smartfonach, wiertłach diamentowych), czy paneli fotowoltaicznych.
- TRUMPF wykorzystuje kluczowe wskaźniki wydajności (KPI), takie jak wydatki na badania i rozwój, czas wprowadzenia na rynek i przychody z nowych produktów, aby oceniać swoją innowacyjność i wyniki rynkowe. Dążymy do tego, aby kwota na badania i rozwój wynosiła ok. 10% rocznej sprzedaży i aby co najmniej 30% przychodów rocznie pochodziło z produktów wprowadzonych na rynek w ciągu ostatnich trzech lat – czytamy wypowiedź Bertholda Schmidt, CTO firmy w serwisie isbtech.pl.
Generatory plazmy TRUMPF Hüttinger odgrywają nadrzędną rolę także podczas właściwej produkcji układów scalonych. Jakość zasilania prądowego definiuje jakość i precyzję wygenerowanej plazmy, która w kolejnym kroku jest wykorzystywana w celu domieszkowania (implantacji jonowej), odcinania (PECVD, ALD) lub usuwania (trawienia plazmowego) różnych materiałów służących do produkcji układów scalonych półprzewodnikowych. Kolejnym, po naświetlaniu i budowie układów połączeń na waflach krzemowych, wyzwaniem dla łańcucha procesów elektronicznych, jest rozdzielanie na osobne układy scalone. Aby uzyskać jak najmniejsze szczeliny cięć i wysoką jakość krawędzi oraz nie uszkodzić wrażliwych układów scalonych pod wpływem wysokich temperatur, przy rozdzielaniu używa się laserów TRUMPF o ultrakrótkich impulsach. Zasilacze indukcyjne firmy są stosowane również w procesie syntetycznej produkcji kryształów, umożliwiając jednorodny i stabilny rozdział temperatury.
- Zdajemy sobie świetnie sprawę z bardzo globalnego charakteru branży półprzewodników. Mimo to Europa wciąż jest obecna na rynku i może być ważnym graczem chociażby dzięki zaangażowaniu TRUMPF i innowacje rozwijane w Niemczech i w Polsce. Wykorzystuje swoją międzynarodową obecność, silne więzi z klientami i wiedzę technologiczną, aby pozostać konkurencyjnymi w skali światowej - mówi Bertold Schmidt, CTO grupy TRUMPF w wywiadzie dla isbtech.pl.
Źródło: trumpf.com, isbtech.pl
Zapraszamy na TEK.day Gdańsk, 26 września 2024. Zapisz się już dziś!
Zdjęcie: © ASML